Полупроводниковые материалы самого последнего поколения, используемые для осаждения диэлектриков с низкими и высокими значениями k, запирающих слоев и металлизации, обычно требуют применения ультрачистых исходных реагентов в жидкой форме. По сравнению с обычными системами подачи ультрачистого газа проблемы, связанные с подачей жидкостей точно и безопасно для инструмента, резко возрастают.

Назначение системы подачи TRICHEM – обеспечить безопасную и согласованную подачу ультрачистых жидких исходных реагентов в устройства для химического осаждения из паровой фазы или осаждения атомарных слоев, позволяющую им постоянно оставаться в готовности к работе в течение продолжительных производственных циклов без перерыва.

В зависимости от конкретного применения система может настраиваться или для режима прерывистой подачи для пополнения барботажного устройства, или для подачи при постоянном давлении для прямой инжекции жидкости.