用于低和高介电常数介质、势垒层以及敷镀金属电镀的最新一代半导体材料通常需要液态的超高纯度母液。 与传统的超高纯度供气系统相比，精确并且安全地向工具输送液体所面临的挑战大大增加了。

TRICHEM输送系统的功能是确保向CVD或ALD工具提供安全稳定的超高纯度液态母液供应，确保其在延长的生产周期内能够无间断地正常运行。

根据这一应用，系统经过调配，既可用于批量注入模式，补充起泡器，也可以用于衡压供应，直接进行液体注入。